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ナノチャネル加工

1. はじめに

当研究室でナノ加工を行う手段としては電子線リソグラフィによるパターンの作製とプラズマによるドライエッチングを選択している。電子線リソグラフィでは任意のパターンをCADなどにより作成し、容易に変更することができる。また、プラズマによるドライエッチングは異方性があり、チャネル断面をほぼ矩形にすることができる。基板の材質としては合成石英ガラスを選択している。合成石英ガラスは汎用的な化学実験に耐えられる機械的・化学的強度を持ち、広範囲な波長において光の透過率が高く分光測定を行うことができ、熱膨張係数が小さいために加工により発生する歪みが小さいという利点がある。この合成石英ガラスの基板2枚を熱融着させることで、拡張ナノチャネルとそれに接続するマイクロチャネルを有するマイクロ/ナノ複合チップを作製している。

2. 加工スキーム

ガラス基板

電子線レジスト

導電性高分子

電子線描画

電子線レジストをスピンコート
ベーキング

導電性高分子をスピンコート

導電性高分子を除去
現像

ドライエッチング

電子線レジストを除去

図1: 加工スキーム


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